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MentorGraphics支持通用验收环境物流

发布时间:2019-11-29 12:20:32 阅读: 来源:玻璃杯厂家

Mentor Graphics 支持通用验收环境

用于三星和格罗方德14纳米鳍式场效晶体管

俄勒冈州威尔逊维2014年6月3日电 -- 继三星电子和格罗方德 (GLOBALFOUNDRIES) 宣布一项战略合作进行多源14纳米鳍式场效晶体管制造之后,Mentor Graphics Corp. (NASDAQ: MENT) 今天透露,客户将能够使用相同的 Calibre® 平台用于验收验证面向三星或格罗方德晶圆厂生产线的集成电路设计。通用性已经延伸至可制造性设计 (DFM) 评分,帮助客户确保其设计得到充分优化,能够最大程度地利用先进的14纳米鳍式场效晶体管制造工艺。“制造分析和评分”(MAS) 平台可区分不同 DFM 效果的优先次序,并针对如何更改设计以最小化这些影响提出建议。

(Photo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20140317/AQ83812LOGO )

14纳米鳍式场效晶体管的验收包括用于双重曝光设计规则检查、版图与原理图对查比较、模式匹配验证、光刻友好型设计以及先进填充制造设计的平台。在14纳米验收套件中纳入 DFM 评分平台开了行业之先河,可确保一致的验收环境。这是确保客户供应战略的关键因素,只有通过全球多个供应源的真正设计兼容来实现。

14纳米鳍式场效晶体管工艺由三星开发,授权给格罗方德,经过优化适用于大容量节能系统芯片设计。其优势包括三维全空乏鳍式场效晶体管,能够克服平面晶体管技术的局限性,与20纳米平面技术相比,它的速度最多能提高20%,功耗减少35%,面积缩小15%。

三星电子晶圆代工营销副总裁 Shawn Han 博士表示:“我们使用 Calibre 平台作为我们设计规则手册验证的参考工具,因此 Calibre 平台是我们客户首先用到。由于 Calibre 是面向我们主要客户的领先验收工具之一,我们将有很大的信心保证他们的14纳米鳍式场效晶体管设计在三星和格罗方德全球产能范围内的任何一个晶圆厂都能用于生产。”

Calibre 平台创造了分解式双重曝光版图,这符合三星所有的14纳米光刻要求,并针对三星光罩合成和有机光导体工艺进行了调整,Mentor 也提供14纳米工艺。它通过 Calibre 模式匹配为设计师提供了有关鳍式场效晶体管复杂设计规则的快速反馈,并通过 Calibre LFD™ 产品提供详细指导来消除 DFM 光刻错误,从而更快、更准确地修正违规行为。用于版图与原理图对查比较和萃取的 Calibre 工具已进行校正,来确保精确的设备和寄生模型用于三星鳍式场效晶体管。此外,Calibre SmartFill 可以实现平面化,同时通过智能放置填充结构来最小化时间问题。

Mentor Graphics“设计至硅片”(Design to Silicon) 部门副总裁兼总经理 Joseph Sawicki 表示:“我们非常高兴参与这项新的多源协作,这可以帮助无晶圆厂半导体公司获得鳍式场效晶体管技术,率先取得硅成功和供应保障。Calibre 平台的开放和我们对于三星最新技术的强大规则平台支持为无晶圆厂客户提供了更多的选择和灵活性,帮助他们保持在其目标设备市场的领先地位。”

了解有关 Mentor Graphics 与三星之间合作的更多信息,请光临三星在6月2-4日旧金山设计自动化会议 (Design Automation Conference) 上的展位。具体日期和时间请参见 Mentor 和三星网站 (www.samsung.com/us/DAC2014)。

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